仪器名称：BMF S140超高精密3D打印机

仪器制造商：BMF摩方精密（美国）

仪器型号：nanoArch® S140

打印方式：面投影微立体光刻（PμSL）

打印精度：XY-10 μm，Z-10 μm

打印尺寸：94 mm×52 mm×45 mm

仪器简介：BMF nanoArch® S140基于面投影微立体光刻技术，可以实现超高精度、大幅面、宏微一体化3D打印。该设备可支持光敏树脂以及掺杂纳米颗粒的功能性复合材料的成型打印，配套光学监控系统、自动对焦功能、以及相应的打印软件和切片软件。BMF nanoArch® S140的最高光学精度为10μm，打印层厚为10~40 μm，成型尺寸：19.2 mm×10.8 mm×45 mm （单投影模式），94 mm ×52 mm ×45 mm （拼接模式），94 mm ×52 mm×45 mm （重复阵列模式）。