仪器名称： BMF S130超高精密3D打印机

仪器制造商：BMF摩方精密（美国）

仪器型号：nanoArch® S130

打印方式：面投影微立体光刻（PμSL）

打印精度：XY-2 μm，Z-5 μm

打印尺寸：38.4 mm×21.6 mm×10 mm

仪器简介：BMF nanoArch® S130基于面投影微立体光刻技术，是一款拥有超高的打印精度和超低的打印层厚的微尺度3D打印机。该设备配置气浮平台提升打印质量，配套光学监控系统、自动对焦功能、以及相应的打印软件和切片软件，可支持多种光敏树脂材料的成型打印。BMF nanoArch® S130的最高光学精度为2 μm，打印层厚为5~20 μm，成型尺寸：3.84 mm×2.16 mm×10 mm （单投影模式），38.4 mm ×21.6 mm ×10 mm （拼接模式），38.4 mm ×21.6 mm ×10 mm （重复阵列模式）。